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溅射靶材ito靶材的生产工艺 ito靶材的生产工艺可以分为3种:热等静压法(hip)、溅射靶材热压法(hp)和气氛烧结法。各种生产工艺及其特点简介如下:
热等静压法:ito靶材的热等静压制作过程是将粉末或预先成形的胚体,鞍山金银泥处理车间设备,在800℃~1400℃及1000kgf/cm 2~2000kgf/cm 2的压力下等方加压烧结。热等静压工艺制造产品密度高、物理机械性能好,但设备投入高,金银泥处理车间设备报价,生产成本高,金银泥处理车间设备,产品的缺氧率高。







超纯金属的制备有化学提纯法如精馏(---是金属氯化物的精馏及氢还原)、升华、溶剂萃取等和物理提纯法如区熔提纯等(见硅、锗、铝、铟)。其中以区熔提纯或区熔提纯与其他方法相 结合有效。

由于容器与药剂中杂质的污染,使得到的金属纯度受到一定的---,只有用化学方法将金属提纯到一定纯度之后,再用物理方法如区熔提纯,才能将金属纯度提到一个新的高度。可以用半导体材料锗及超纯金属铝为例说明典型的超纯金属制备及检测的原理(见区域熔炼)。
由表面层和---组成的半导电辊;该表面层具有较高的电阻值,由橡胶组合物制成;---具有较低的电阻值,由导电橡胶组合物组成。该半导电辊的目的在于通过---地平衡表面层和---的电阻值而获得---的静电充电特性。有---使这两种层的厚度高度准确。为使两种层的厚度高度准确,需要较麻烦的管理,并且生产橡胶辊的成本较高。

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