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工业上大量使用的是工业纯稀土金属，较高纯度的稀土金属主要供测定物理化学性能之用。主要有四种提纯方法在试验室中使用，即真空熔融，真空蒸馏或升华，电迁移和区域熔炼。 稀土金属棒在区域熔炼炉中以很慢的速度（如提纯钇时为0.4毫米/分），黄山2n金靶材，进行多次区熔，对去除铁、铝、镁、铜、镍等金属杂质有，但对氧、氮、碳、氢无效。此外，2n金靶材厂家，电解精炼、区熔－电迁移联---提纯稀土也有一定效果。

各种类型的溅射薄膜材料在半导体集成电路(vlsi)、光碟、平面显示器以及工件的表面涂层等方面都得到了广泛的应用。20世纪90年代以来，2n金靶材报价，溅射靶材及溅射技术的同步发展，---地满足了各种新型电子元器件发展的需求。例如，在半导体集成电路制造过程中，以电阻率较低的铜导体薄膜代替铝膜布线。

在被溅射的靶极（阴极）与阳极之间加一个正交磁场和电场，在高真空室中充入所需要的惰性气体（通常为ar气），磁铁在靶材料表面形成250～350高斯的磁场，同高压电场组成正交电磁场。