925银铜-东创----池州925银铜_沈阳合金

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磁控溅射靶材种类：金属溅射镀膜靶材，合金溅射镀膜靶材，陶瓷溅射镀膜靶材，925银铜，硼化物陶瓷溅射靶材，碳化物陶瓷溅射靶材，---物陶瓷溅射靶材，氮化物陶瓷溅射靶材，氧化物陶瓷靶材，925银铜生产厂家，硒化物陶瓷溅射靶材，硅化物陶瓷溅射靶材，---物陶瓷溅射靶材，池州925银铜，碲化物陶瓷溅射靶材，其他陶瓷靶材，掺铬一氧化硅陶瓷靶材（cr-sio），磷化铟靶材（inp），铅靶材（pbas），铟靶材（inas）。

对圆周方向的电阻值的不均匀依然无法---。

此外，采用连续---法时，如果---时的热传递没有设法尽量达到均匀，则挤压后的---速度不一致，这样可能电阻值的不均匀程度反而大于间歇式---法。---是在圆周方向上这种倾向更---。

采用连续---法时，在挤压机的挤压筒内的半径方向上有非常大的剪切速度分布，这可能会影响电子导电性填充剂的分散。

热压法：ito靶材的热压制作过程是在石墨或氧化铝制的模具内充填入适当粉末以后，以 100kgf/cm 2～1000kgf/cm 2的压力单轴向加压，925银铜价格，同时以1000℃～1600℃进行烧结。热压工艺制作过程所需的成型压力较小，烧结温度较低，烧结时间较短。但热压法生产的ito靶材由于缺氧率高，氧含量分布不均匀，从而影响了生产ito薄膜的均匀性，且不能生产大尺寸的靶。

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