





以含有氯原子的表橡胶为代表的橡胶组分,用于导电橡胶辊,以允许导电橡胶辊呈离子导电性。该情况下,含有氯原子的橡胶组分具有较高的表面自由能。因此,含有氯原子的橡胶组分容易粘附于---和用于---的添加剂上。压接:采用压条,一般为了提高接触的---性,会增加石墨纸、pb或in皮。当含有氯原子的橡胶组分与离子导电的单体聚合时,导电辊具有较高的表面自由能并且容易弄湿。因此粘附于导电橡胶辊的---量变得较高。当通过用紫外线照射其表面或者使其暴露于臭氧中,使导电橡胶辊的表面上形成氧化膜时,导电橡胶辊表面的氧浓度变得较高。

溅射技术:溅射是制备薄膜材料的主要技术之一,它利用离子源产生的离子,在真空中经过加速---,而形成高速度能的离子束流,轰击固体表面,离子和固体表面原子发生动能交换,使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面,被轰击的固体是制备溅射法沉积薄膜的原材料,称为溅射靶材。在使用电子照相方法的打印技术中,已经渐进实现高速打印操作、高图像形成、彩色像形成、以及成像装置小型化,并且变得很普遍。各种类型的溅射薄膜材料无论在半导体集成电路、太阳能光伏、记录介质、平面显示以及工件表面涂层等方面都得到了广泛的应用。

各种纯度铝中的杂质含量及剩余电阻率如表2所示。超纯金属超纯的纯度也可以用剩余电阻率来测定,其值约为2×10-5。现代科学技术的发展趋势是对金属纯度要求越来越高。根据电解质的种类可分为氯化物熔盐体系和---物-氧化物熔盐体系电解法,多用于制取以---为主的混合稀土金属以及---、镨、钕等单一稀土金属。因为金属未能达到一定纯度的情况下,金属特性往往为杂质所掩盖。不仅是半导体材料,其他金属也有同样的情况,由于杂质存在影响金属的性能。

钨过去用作灯泡的灯丝,由于脆性而使处理上有困难,在适当提纯之后,这种缺点即可以克服(钨丝也有掺杂及加工问题)。
各种类型的溅射薄膜材料在半导体集成电路(vlsi)、光碟、平面显示器以及工件的表面涂层等方面都得到了广泛的应用。20世纪90年代以来,溅射靶材及溅射技术的同步发展,---地满足了各种新型电子元器件发展的需求。镀膜靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。例如,在半导体集成电路制造过程中,以电阻率较低的铜导体薄膜代替铝膜布线。
在被溅射的靶极(阴极)与阳极之间加一个正交磁场和电场,在高真空室中充入所需要的惰性气体(通常为ar气),磁铁在靶材料表面形成250~350高斯的磁场,同高压电场组成正交电磁场。
